Navigacija

OF4TP - Tehnika plazme

Specifikacija predmeta
Naziv Tehnika plazme
Akronim OF4TP
Studijski program Elektrotehnika i računarstvo
Modul modul Fizička elektronika
Tip studija osnovne akademske studije
Nastavnik (predavač)
Nastavnik/saradnik (vežbe)
Nastavnik/saradnik (DON)
    Broj ESPB 6.0 Status predmeta izborni
    Uslovljnost drugim predmetima Položen predmet: Fizička elektronika gasova i plazme
    Ciljevi izučavanja predmeta Upoznavanje studenata sa osnovnim konceptima raznih tehnika plazme koje koriste moderne tehnologije. Primena stečenog znanja o karakteristikama plazme u razvoju budućeg inženjeringa.
    Ishodi učenja (stečena znanja) Poznavanje osnovnih principa depozicije materijala, pravljenja tankih slojeva, nagrizanja materijala u plazma tehnici. Masovno pravljenje integrisanih kola velikog stepena integracije. Nanoslojevi u plazma tehnici.
    Sadržaj predmeta
    Sadržaj teorijske nastave Osnove gasnih pražnjenja, izvori plazme, Reactive Ion Etcher pražnjenja, plazma hemija, plazma tehnika u proizvodnji mikroelektronskih kola, kinetička teorija i sudari, ECR izvori plazme, induktivno spregnuta plazma, helikoidalno talasni izvori plazme, plazma dijagnostika
    Sadržaj praktične nastave Praktične vežbe, istraživački rad u laboratoriji
    Literatura
    1. Reactive Sputter Deposition, Diederik Depla (Editor), Stijn Mahieu (Editor), Springer 2008.
    2. Lecture Notes on Principles of Plasma Processing, Jane P. Chang, Francis F. Chen, Spinger 2003
    Broj časova aktivne nastave nedeljno tokom semestra/trimestra/godine
    Predavanja Vežbe DON Studijski i istraživački rad Ostali časovi
    3 2
    Metode izvođenja nastave Predavanja, auditorne vežbe, projekti
    Ocena znanja (maksimalni broj poena 100)
    Predispitne obaveze Poena Završni ispit Poena
    Aktivnosti u toku predavanja 0 Pismeni ispit 50
    Praktična nastava 0 Usmeni ispit 0
    Projekti 10
    Kolokvijumi 40
    Seminari 0